Chiplet/3D封装技术:后摩尔时代的芯片革命与屹立芯创的良率保障
在摩尔定律逐渐放缓的背景下,Chiplet(小芯片)技术和3D封装成为半导体行业突破性能与集成度瓶颈的关键路径。然而,随着芯片集成度的提高,气泡缺陷成为影响封装良率的核心挑战之一。南京屹立芯创半导体科技有限公司(ELEAD TECH)凭借其晶圆级真空贴压膜系统
在摩尔定律逐渐放缓的背景下,Chiplet(小芯片)技术和3D封装成为半导体行业突破性能与集成度瓶颈的关键路径。然而,随着芯片集成度的提高,气泡缺陷成为影响封装良率的核心挑战之一。南京屹立芯创半导体科技有限公司(ELEAD TECH)凭借其晶圆级真空贴压膜系统
在 2.5D 封装架构中,所有芯片及无源器件均处于 XY 平面上方。其中,至少部分芯片与无源器件被安置于中介层之上。于 XY 平面上方,存在中介层的布线以及过孔;而在 XY 平面下方,则设有基板的布线与过孔。
在"内存墙"的瓶颈下,催生了2.5D/3D堆叠芯片技术的革命浪潮,这种突破二维平面的异构整合方案,通过硅通孔(TSV)与微凸点技术构建三维互联网络,将不同组件进行立体封装。